三木SEO-又一高端光刻胶（KrF/ArF）项目验收

近日，关在杭州翰亚微电子科技有限公司高等光刻胶新质料项目（一期）于相干网站验收公示。据悉，该项目投资10150万元，设置装备摆设年产3吨高等光刻胶新质料（一期），在2024年12月竣工，2025年1月最先调试，现实2.62吨高等光刻胶新质料先行验收，包括KrF光刻胶质料2.5t/a,ArF光刻胶质料0.5t/a。资料显示，杭州翰亚微电子科技有限公司在2023年6月于杭州市钱塘区建立，注资625万元，今朝已经完成A轮融资。公司致力在成长成为海内首个具有贸易量产能力的高端深紫外光刻三木SEO-胶KrF(248nm)/ArF(193nm)焦点树脂质料以和下一代EUV(13nm)极紫外光刻胶树脂质料的高科技出产企业。

光刻胶又称光致抗蚀剂，构成部门包括：光激发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂及其他助剂，经由过程紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或者辐射等光化学反映，经暴光、显影等光刻工序，将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。

按暴光波长来看，半导体光刻胶又可分为g线（436nm）、i线（365nm），KrF（248nm），ArF（193nm），以和EUV光刻胶（13.5nm）。此中，今朝，EUV光刻胶险些全数依靠入口，而KrF及ArF光刻胶，海内已经有多家企业实现了量产，但市场份额极低，包括南年夜光电、晶瑞电材、彤程新材、徐州博康、鼎龙股分、上海新阳等。

来历：DT新质料